VacuTEC 客制化真空腔體等離子設備

產(chǎn)品特征:

·安裝及使用簡單 ·處理速度快 ·標準或客制化的處理倉 ·真空度 ·工藝氣體 ·進程控制 ·節(jié)約成本 ·真空壓力下等離子處理 ·獨特設計的倉門

當真空處理倉內的壓強為2至12mbar,接近真空時，通過等離子電極發(fā)生的放電離子作用到物體表面，對其進行處理。處理的周期一般很短，根據(jù)產(chǎn)品材質不同，時間在2-120s之間。

VacuTEC操作簡單、可靠性強、處理速度快。處理過程中采用的工藝氣體也可以是氬氣、氧氣等氣體，但是大多數(shù)情況下，因為采用常規(guī)的空氣也可以產(chǎn)生強大的能量，無需使用這些工藝氣體，就可以達到滿意的處理效果。

Tantec采用先進的HV-X系列放電發(fā)生器，配備的變壓器也是根據(jù)等離子的電極而專門設計的。

特點：
·安裝及使用簡單 連接電源和壓縮空氣裝置
·處理速度快 根據(jù)材料性質以及功率不同，處理時間為20-180s。
·標準或客制化的處理倉 處理倉和托盤可根據(jù)不同應用進行設計。
·真空度 根據(jù)應用不同，在1-12mbar條件下可產(chǎn)生等離子放電。
·工藝氣體 可使用氧氣和氬氣等工藝氣體，但是大部分情況下是沒必要的。
·進程控制 等離子處理進程由HV-X系列放電發(fā)生器和PLC裝置控制。所有參數(shù)在觸摸板上均有顯示（標準-proface觸摸屏）。
·節(jié)約成本 功率消耗低，無需工藝氣體，成本低，是改善物體表面濕潤性和粘合性的最佳解決方案。
·真空壓力下等離子處理 可處理導電和非導電的物體表面。
·獨特設計的倉門 標準的倉門可手動或自動打開。